[发明专利]装料装置以及用于使可堆叠的截头圆锥形多孔预制体致密化的设备有效
申请号: | 201380035749.3 | 申请日: | 2013-07-03 |
公开(公告)号: | CN104428443B | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | S·古雅尔;S·贝特朗;A·德尔康;F·博韦 | 申请(专利权)人: | 赫拉克勒斯公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/458;C23C16/46;C04B35/00 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 法国,*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 一种装料装置(100),其用于在渗透烤炉的反应室中通过受控流动化学气相渗透使具有可堆叠形状的多孔预制体(160‑163)致密化,所述装置包括:‑支撑板(110);‑多个下环(140‑144)的第一堆叠件,其放置在所述支撑板(110)上,并且多个下环(140‑144)的第一堆叠件包括在每个环的外周围与内周围之间延伸的多个注入孔;‑多个上环(150‑154)的第二堆叠件,其包括在每个环的外周围与内周围之间延伸的多个排出孔;‑第一无孔壁(130),其具有与用于致密化的所述多孔预制体(160‑163)的形状和尺寸相同的形状和尺寸,并设置在所述第一堆叠件的下环(140‑144)内部并设置在所述支撑板(110)上,所述第一无孔壁在所述支撑板与位于所述第二堆叠件的基部的所述上环之间延伸;‑第二无孔壁(170),其具有与用于致密化的所述多孔预制体(160‑163)的形状和尺寸相同的形状和尺寸,所述第二无孔壁在位于所述第一堆叠件顶部的下环(143)与位于所述第二堆叠件顶部的下环(154)之间延伸。 | ||
搜索关键词: | 装料 装置 以及 用于 堆叠 圆锥形 多孔 预制 致密 设备 | ||
【主权项】:
一种装载装置(100),其用于在渗透烤炉的反应室中通过定向流的化学气相渗透而使可堆叠形状的多孔预制体(160‑163)致密化,所述装置包括:·支撑托盘(110);·第一堆叠件,其包括放置在所述支撑托盘(110)上的多个底环(140‑144),每个底环具有在每个环的外周围与内周围之间延伸的多个注入孔(1401;1411;1421;1431;1441);·第二堆叠件,其包括多个顶环(150‑154),每个顶环具有在每个环的外周围与内周围之间延伸的多个排出孔(1501;1511;1521;1531;1541);·第一无孔壁(130),其具有与用于致密化的所述多孔预制体(160‑163)的形状和尺寸相同的形状和尺寸,所述第一无孔壁设置在所述第一堆叠件的底环(140‑144)内部并位于所述支撑托盘(110)上,并且在所述支撑托盘与位于所述第二堆叠件的基部处的顶环之间延伸;以及·第二无孔壁(170),其具有与用于致密化的所述多孔预制体(160‑163)的形状和尺寸相同的形状和尺寸,所述第二无孔壁在位于所述第一堆叠件顶部的底环(143)与位于所述第二堆叠件顶部的顶环(154)之间延伸。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的