[发明专利]限制光学装置中的缺陷有效
| 申请号： | 201380025529.2 | 申请日： | 2013-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN104302437B | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 托德·马丁 | 申请（专利权）人： | 唯景公司 |
| 主分类号： | B23K26/06 | 分类号： | B23K26/06;B23K26/00;B23K26/08 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述限制光学装置中的缺陷的方法。通过激光烧蚀在缺陷周围形成周界，其中所述周界电隔离所述缺陷。所述周界不会因为来自激光的过剩能量而受到损坏，且因此不会造成新的电短路。 | ||
| 搜索关键词： | 限制 光学 装置 中的 缺陷 | ||
【主权项】：
一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a.开始以第一通量水平施加激光，所述激光具有在所述激光烧蚀周界的第一区处的激光焦点；b.将所述激光焦点从所述第一区平移到所述激光烧蚀周界的第二区，同时随着其从所述第一区平移到所述第二区而增加所述激光的通量水平；以及c.使所述激光焦点返回到所述第一区以便封闭所述激光烧蚀周界，同时降低所述激光的通量水平；其中在所述激光烧蚀周界处施加的能量大体上均匀，且所述激光焦点在所述第一区处的重叠为至少25％。
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