[实用新型]一种新型匀胶机托盘结构

摘要

本实用新型公开了一种新型匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台、真空吸片结构和伞状保护结构；所述硅片承片台包括：硅片承载平面、储胶槽和凸台，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口；所述伞状保护结构安装在所述凸台的顶部，位于所述储胶槽内。通过上述方式，本实用新型具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤；同时设有伞状保护结构，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流方向，使储胶槽和硅片背面形成的真空腔体内形成一定的气压差，有效防止储胶槽中的光刻胶在运动过程中回流至硅片背面。

主权项

一种新型匀胶机托盘结构，其特征在于，包括：硅片承片台、真空吸片结构和伞状保护结构；所述硅片承片台包括：硅片承载平面、储胶槽和凸台，所述硅片承载平面位于所述硅片承片台的上端，所述硅片承载平面为一圆形水平面，所述储胶槽为沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设的凹槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，所述凸台位于所述储胶槽的中间；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述伞状保护结构安装在所述凸台的顶部，并位于所述储胶槽内。