[实用新型]用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置，包括用于吸附膜材的真空平台、激光器和振镜，所述激光器和振镜之间设有扩束镜，所述真空平台的上方设有CCD图像传感器，所述真空平台的一侧设有吹气装置，另一侧设有集尘装置。本实用新型提供的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置，采用高频率的短脉冲激光器作为激光源进行激光蚀刻，通过小幅面振镜蚀刻来完成膜材蚀刻，产生的粉尘经过吹气系统和集尘系统集尘，从而可以避免现有技术成本高，效率低、加工局限大以及污染大等缺陷，简化刻蚀过程并提高精度。

主权项

一种用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置，其特征在于，包括用于吸附膜材的真空平台(1)、激光器(2)和振镜(4)，所述激光器(2)和振镜(4)之间设有扩束镜(3)，所述真空平台(1)的上方设有CCD图像传感器(5)，所述真空平台(1)的一侧设有吹气装置(6)，另一侧设有集尘装置(7)。