[实用新型]一种超精密抛光机床坐标原点标定块有效

专利信息
申请号: 201320631794.2 申请日: 2013-10-13
公开(公告)号: CN203509927U 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 冀世军;于慧娟;赵继;李阳;王晓晖 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: B24B49/00 分类号: B24B49/00
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 朱世林;王寿珍
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 实用新型公开了一种超精密抛光机床坐标原点标定块,能够对超精密抛光机床原点进行有效坐标标定的标定块,使超精密抛光机床在后续的实际运转中能够精确、有效地工作,其包括标定块本体,标定块本体为圆柱体,标定块本体上部侧面设有两个中心对称的凹槽Ⅰ和凹槽Ⅱ,凹槽Ⅰ和凹槽Ⅱ的侧平面互相平行且关于标定块本体轴线对称,凹槽Ⅰ和凹槽Ⅱ侧平面的平面度公差等级在IT5~IT6之间;标定块本体下部设有凸台,凸台与超精密抛光机床转台中心孔过盈配合。
搜索关键词: 一种 精密 抛光 机床 坐标 原点 标定
【主权项】:
一种超精密抛光机床坐标原点标定块,其特征在于,标定块本体(1)为圆柱体,标定块本体(1)上部侧面设有两个对称的凹槽Ⅰ(2)和凹槽Ⅱ(3),标定块本体(1)下部设有凸台(4)。
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