[实用新型]一种用于改善单晶径向氧梯度的热屏装置有效

专利信息
申请号: 201320536183.X 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN203474954U 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 张学强;黄永恩;范全东 申请(专利权)人: 宁晋赛美港龙电子材料有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 代理人: 李羡民;周晓萍
地址: 055550 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 种用于改善单晶径向氧梯度的热屏装置,用于解决传统热屏屏蔽热辐射效率低下,不能充分改善熔体界面的温度梯度问题。所述装置包括固定端、隔热壁和导向平板,所述隔热壁为上大下小的筒状,所述导向平板为水平设置的环装板,导向平板固接在隔热壁下端。采用本实用新型的有益效果是:1、拉晶过程中增强了管道效应的利用率;2、齿形环之间形成环流,增加液面上方的负压值,加速SiO的溢出效率,降低了硅溶液中的氧含量,改善了硅单晶中的氧含量梯度即浓度值;3、充分改善了熔硅界面的温度梯度,对成晶效率、界面平坦度、杂质的径向均匀性等各项参数均有明显改善效果。
搜索关键词: 一种 用于 改善 径向 梯度 装置
【主权项】:
一种用于改善单晶径向氧梯度的热屏装置,其特征在于,它包括固定端(1)、隔热壁(2)和导向平板(3),所述隔热壁为上大下小的筒状,所述导向平板为水平设置的环装板,导向平板固接在隔热壁下端。
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