[实用新型]一种研磨装置有效
| 申请号： | 201320362854.5 | 申请日： | 2013-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN203292974U | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 李龙;马童国;刘晓旺;柴朝军;杨越 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/08 | 分类号： | B24B9/08 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨装置，包括：工作台；设置于工作台之上的第一研磨单元和第二研磨单元；机台，用于承载基板在工作台上运动，经过第一研磨单元和第二研磨单元对基板进行研磨；机台包括第一机台和第二机台，第一机台承载基板经过第一研磨单元对基板进行研磨，第二机台承载基板经过第二研磨单元对基板进行研磨。研磨装置还包括设置在第一机台和第二机台之间的可旋转的搬运手，搬运手通过真空吸盘吸附搬运基板并旋转90度。本实用新型通过将对基板的长边和短边分开进行研磨，减少研磨工艺的等待周期，提高研磨流水线的生产效率，且进行研磨切换时，避免将研磨碎屑带入到研磨机台下的真空阀中，保护真空装置，延长轴承使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨装置，其特征在于，包括：工作台；设置于所述工作台之上的第一研磨单元和第二研磨单元；机台，用于承载基板在所述工作台上运动，经过所述第一研磨单元和/或第二研磨单元对所述基板进行研磨。
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