[实用新型]一种真空熔断器有效

专利信息
申请号: 201320288443.6 申请日: 2013-05-24
公开(公告)号: CN203312229U 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 杨光 申请(专利权)人: 杨光
主分类号: H01H85/047 分类号: H01H85/047;H01H85/05
代理公司: 深圳市嘉宏博知识产权代理事务所 44273 代理人: 孙强
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种真空熔断器,真空熔断器包括管体、熔断体、内帽以及外帽,该内帽盖设在该管体两端,该熔断体两端分别连接在盖设在该管体两端的该内帽上,该熔断体整体穿设在该管体中,该外帽盖设在该内帽上,第一密封体设置在该管体内腔的上下两端部,且借助该管体的内表面与该第一密封体密封形成一真空腔,该熔断体中央主体部分设置在该真空腔中,由该第一密封体对该真空腔形成第一道密封屏障,第二密封体设置在该内帽与该外帽之间,由该第二密封体对该真空腔形成第二道密封屏障,第三密封体包裹在该外帽与该管体的外表面之间,由该第三密封体对该真空腔形成第三道密封屏障。
搜索关键词: 一种 真空 熔断器
【主权项】:
一种真空熔断器,其包括管体、熔断体、内帽以及外帽,其特征在于:该内帽盖设在该管体两端,该熔断体两端分别连接在盖设在该管体两端的该内帽上,该熔断体整体穿设在该管体中,该外帽盖设在该内帽上,第一密封体设置在该管体内腔的上下两端部,且借助该管体的内表面与该第一密封体密封形成一真空腔,该熔断体中央主体部分设置在该真空腔中,由该第一密封体对该真空腔形成第一道密封屏障,第二密封体设置在该内帽与该外帽之间,由该第二密封体对该真空腔形成第二道密封屏障。
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