[实用新型]电解铜箔透光点在位检测装置有效
申请号: | 201320249569.2 | 申请日: | 2013-05-09 |
公开(公告)号: | CN203203939U | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 范程华;蒋先伟;沈晶;李志;张涛;汪志娟 | 申请(专利权)人: | 合肥师范学院 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 何梅生;郭华俊 |
地址: | 230601 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种电解铜箔透光点在位检测装置,包括控制计算机、两台CCD摄像机、图像采集卡、显示器和控制键盘;所述两台CCD摄像机中的每一台CCD摄像机均与图像采集卡相连接,所述图像采集卡与所述控制计算机相连接;所述控制计算机还设置有所述显示器和控制键盘。本实用新型的电解铜箔透光点在位检测装置,具有可在线对铜箔的针孔进行高精度地检测、检测成本低、提高了铜箔的产品质量等优点。 | ||
搜索关键词: | 电解 铜箔 透光 在位 检测 装置 | ||
【主权项】:
电解铜箔透光点在位检测装置,其特征是,包括控制计算机、两台CCD摄像机、图像采集卡、显示器和控制键盘;所述两台CCD摄像机中的每一台CCD摄像机均与图像采集卡相连接,所述图像采集卡与所述控制计算机相连接;所述控制计算机还设置有所述显示器和控制键盘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥师范学院,未经合肥师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320249569.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种灌浆连接的导管架支撑结构
- 下一篇:一种智能移动电源