[实用新型]石膏模型室反向下水式灌模装置有效
| 申请号： | 201320172970.0 | 申请日： | 2013-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN203149994U | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 蔡毅;宋宇哲;陈金锐;李红;张振波;石璐 | 申请（专利权）人： | 蔡毅 |
| 主分类号： | G09B25/02 | 分类号： | G09B25/02 |
| 代理公司： | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 | 代理人： | 王怡敏 |
| 地址： | 130031 吉林省*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种石膏模型室反向下水式灌模装置，属于教学器材领域。一、二、三级水池置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池的侧边分别设置伸缩式操作台，在对立两排水池中间设置风干平台，在风干平台的两侧设置水源孔与水龙头连接；在一、二级水池的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ，在二、三级水池的底面分别设置过滤下水口；所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。优点在于：结构新颖，操作简单，使用方便。水龙头数量足够多，保证更多学生方便、快捷的制作有质量的模具。一、二、三级水池之间排水孔的沉降高度为5厘米，保证流畅和方便及时清理。安装在200多平方米的灌模室内，容纳50余学生同时灌注。 | ||
| 搜索关键词： | 石膏 模型 反向 下水 式灌模 装置 | ||
【主权项】：
一种石膏模型室反向下水式灌模装置，其特征在于：一、二、三级水池（1、2、3）置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池（1、2、3）的侧边分别设置伸缩式操作台（4），在对立两排水池中间设置风干平台（5），在风干平台（5）的两侧设置水源孔（6）与水龙头连接；在一、二级水池（1、2）的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ（7、8），在二、三级水池（2、3）的底面分别设置过滤下水口；所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。
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