[实用新型]电化学抛光装置有效
| 申请号： | 201320105120.9 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN203174217U | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 庄维伟;高永超;程好;杨淑平;蔡渊;贺昱旻 | 申请（专利权）人： | 苏州新材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215125 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种电化学抛光装置，包括：槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动。本实用新型还公开了一种电化学抛光方法。本实用新型的装置结构简单，可以解决基带表面出现的柱状条纹，本实用新型的抛光方法抛光效果好，且抛光处理速度快。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种电化学抛光装置，其特征在于，包括：槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动。
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