[实用新型]一种耕地埂坎结构有效

专利信息
申请号: 201320073445.3 申请日: 2013-02-16
公开(公告)号: CN203113356U 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 韦杰;陈国建;金慧芳;侯林;董宏伟 申请(专利权)人: 重庆师范大学
主分类号: E02D17/20 分类号: E02D17/20;E01C15/00;E01F5/00
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 李海华
地址: 400047 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 实用新型公开了一种耕地埂坎结构,它由上下两层构成,下层为硬料层,上层为土质层,硬料层由条石(或块石、空心砖)堆砌而成并形成自然缝隙;土质层顶部两侧种植低矮灌草经济植物,中间用作行走道。硬料层与土质层接触的上表面进行糙化处理并间隔开凿有若干凹槽,土质层部分嵌入凹槽内。硬料层壁面沿不同高度布设有若干排水孔。本实用新型工程量小,投资少,施工简单,容易修复,能显著改善单一土坎不稳定、单一石坎成本高等弊病。土质层种植植物篱还有助于固土培肥,与地埂相结合起到双重调节作用,具有明显的水土流失控制效果,同时还产生一定的经济效益。
搜索关键词: 一种 耕地 结构
【主权项】:
一种耕地埂坎结构,其特征在于:它由上下两层构成,下层为硬料层(2),上层为土质层(1),硬料层(2)由条石、块石或者空心砖堆砌而成并形成自然缝隙;土质层(1)厚度为20~30cm,土质层(1)顶部两侧种植植物(3),中间用作行走道。
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