[实用新型]耐酸碱制程用电容屏保护膜有效

专利信息
申请号: 201320072757.2 申请日: 2013-02-08
公开(公告)号: CN203095964U 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 金闯;谢洪涛 申请(专利权)人: 斯迪克新型材料(江苏)有限公司
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡
地址: 223900 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种耐酸碱制程用电容屏保护膜,包括基材层、位于基材层上表面的耐酸胶粘剂层,此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜,所述基材层与耐酸胶粘剂层之间具有一抗静电涂层,所述耐酸胶粘剂层的厚度为0.005~0.1毫米,所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜,所述抗静电涂层的厚度为1~5微米。本实用新型电容屏保护膜在解决了保护膜耐酸碱的问题同时,也有效防止加工中静电对电容屏中线路的影响,从而利于进一步保护电容屏。
搜索关键词: 耐酸 碱制程 用电 屏保
【主权项】:
一种耐酸碱制程用电容屏保护膜,其特征在于:包括基材层(1)、位于基材层(1)上表面的耐酸胶粘剂层(3),此耐酸胶粘剂层(3)上表面覆盖有一离型膜(4),所述基材层(1)与耐酸胶粘剂层(3)之间具有一抗静电涂层(2)。
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