[实用新型]耐酸碱制程用电容屏保护膜

说明书

本实用新型涉及一种耐酸碱制程用电容屏保护膜，尤其涉及一种用于在酸性或碱性环境中对表面进行保护的膜。

电子行业中，保护膜无处不在，一般笔记本前盖后盖的制程保护，以及背光模组的组装过程中导光板、偏光膜、扩散膜的保护等等。普通的保护膜已经不能满足市场需求，特殊要求的制程保护膜越来越多，例如耐酸碱制程保护膜，在玻璃基材的电容屏边缘腐蚀处理时，需采用制程保护膜与电容屏上、下表面贴合，从而在实现电容屏边缘光滑处理时，保护电容屏的上、下表面。现有制程保护膜，在制程中无法有效排泄静电，从而导致电容屏的可靠性下降，因此，如何设计一种能耐酸碱，也有效防止加工制程中静电对电容屏中线路的影响，从而利于进一步保护电容屏，成为本领域普通技术人员努力的方向。

本实用新型提供一种耐酸碱制程用电容屏保护膜，此电容屏保护膜在解决了保护膜耐酸碱的问题同时，也有效防止加工中静电对电容屏中线路的影响，从而利于进一步保护电容屏。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种耐酸碱制程用电容屏保护膜，包括基材层、位于基材层上表面的耐酸胶粘剂层，此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜，所述基材层与耐酸胶粘剂层之间具有一抗静电涂层。

上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：

1. 上述方案中，所述耐酸胶粘剂层的厚度为0.005~0.1毫米。

2. 上述方案中，所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜。

3. 上述方案中，所述抗静电涂层的厚度为1~5微米。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

本实用新型耐酸碱制程用电容屏保护膜，其当耐酸碱胶粘剂贴合到被贴物，例如素玻璃、铝板等之上，即使浸泡在一定浓度的酸性或碱性溶液中30min，撕除耐酸碱保护膜时，不会在被贴物表面留有残胶，被贴物表面也不会产生腐蚀；其次，其基材层与耐酸胶粘剂层之间具有一抗静电涂层，在解决了保护膜耐酸碱的问题同时，也有效防止加工中静电对电容屏中线路的影响，从而利于进一步保护电容屏。

本实用新型耐酸碱制程用电容屏保护膜，其当耐酸碱胶粘剂贴合到被贴物，例如素玻璃、铝板等之上，即使浸泡在一定浓度的酸性或碱性溶液中30min，撕除耐酸碱保护膜时，不会在被贴物表面留有残胶，被贴物表面也不会产生腐蚀；其次，其基材层与耐酸胶粘剂层之间具有一抗静电涂层，在解决了保护膜耐酸碱的问题同时，也有效防止加工中静电对电容屏中线路的影响，从而利于进一步保护电容屏。

附图1为本实用新型耐酸碱制程用电容屏保护膜结构示意图。

以上附图中：1、基材层； 2、抗静电涂层；3、耐酸胶粘剂层；4、离型膜。

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

实施例1：一种耐酸碱制程用电容屏保护膜，包括基材层1、位于基材层1上表面的耐酸胶粘剂层3，此耐酸胶粘剂层3上表面覆盖有一离型膜4，所述基材层1与耐酸胶粘剂层3之间具有一抗静电涂层2。

上述耐酸胶粘剂层3的厚度为0.025毫米。

上述基材层1为聚丙烯薄膜；上述抗静电涂层2的厚度为4微米。

实施例2：一种耐酸碱制程用电容屏保护膜，包括基材层1、位于基材层1上表面的耐酸胶粘剂层3，此耐酸胶粘剂层3上表面覆盖有一离型膜4，所述基材层1与耐酸胶粘剂层3之间具有一抗静电涂层2。

上述耐酸胶粘剂层3的厚度为0.085毫米。

上述基材层1为聚氯乙烯薄膜；上述抗静电涂层2的厚度为2微米。

采用上述耐酸碱制程用电容屏保护膜时，其当耐酸碱胶粘剂贴合到被贴物，例如素玻璃、铝板等之上，即使浸泡在一定浓度的酸性或碱性溶液中30min，撕除耐酸碱保护膜时，不会在被贴物表面留有残胶，被贴物表面也不会产生腐蚀；其次，其基材层与耐酸胶粘剂层之间具有一抗静电涂层，在解决了保护膜耐酸碱的问题同时，也有效防止加工中静电对电容屏中线路的影响，从而利于进一步保护电容屏。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。