[发明专利]一种虚拟图案填充程式的质量合格保证方法以及版图结构在审
| 申请号： | 201310746362.0 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104750893A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 樊强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 董巍,高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种虚拟图案填充程式的质量合格保证方法以及版图结构，所述方法包括以下步骤步骤（a）虚拟图案设计与电路版图主设计规则的一致性检查；步骤（b）虚拟图案插入之后虚拟图案检查规则和图形密度检查规则的违反性检查；步骤（c）虚拟图案和参考图层之间的相关性检查。本发明中提供了一种新的并且是全面的虚拟图案填充的质量保证流程，以避免现有技术质量监测过程中存在的各种缺陷，本发明所述方法的优点在于可以消除由于虚拟图案的插入带来的各种潜在的风险（1）可以避免虚拟图案违反设计规则以及由此带来的工艺过程中的各种问题；（2）所述方法可以避免由于虚拟图案和参考图层之间接触，造成所述器件性能失效，损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 虚拟 图案 填充 程式 质量 合格 保证 方法 以及 版图 结构 | ||
【主权项】：
一种虚拟图案填充程式的质量合格保证方法，包括以下步骤：步骤（a）虚拟图案设计与电路版图主设计规则的一致性检查；步骤（b）虚拟图案插入之后虚拟图案检查规则和图形密度检查规则的违反性检查；步骤（c）虚拟图案和参考图层之间的相关性检查。
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