[发明专利]设计随机图案的方法和装置及包括该随机图案的光学基板有效
| 申请号： | 201310693802.0 | 申请日： | 2013-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN103870058B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 张佑荣;李承宪;全致九 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 许向彤,陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种设计随机图案的方法、用于设计随机图案的装置以及包括根据所述设计随机图案的方法设计的随机图案的光学基板。所述方法包括在图案设计区中设置多个单元有效图案区；在所述单元有效图案区中形成随机点坐标；并且将所述单元有效图案区中的随机点坐标连接到在第一或第二方向上与所述随机点坐标相邻的其他随机点坐标。 | ||
| 搜索关键词： | 设计 随机 图案 方法 装置 包括 光学 | ||
【主权项】：
一种光学基板的设计方法，其特征在于，包括：将光学基板区分成多个单位有效图案区的步骤；在所述各个单位有效图案中设置两个以上随机点的步骤；用连接线连接相邻的单位有效图案区中的随机点的步骤，任意的所述单位有效图案区中的一随机点与相邻的单位有效图案区中的随机点之间的距离为20μm至1mm。
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