[发明专利]具有水平式多孔喷淋装置的光辅助MOCVD反应器有效

专利信息
申请号: 201310670277.0 申请日: 2013-12-10
公开(公告)号: CN103603038A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 李国兴;任泽龙;张宝林;李万程;汪薪生;郭峰 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C30B25/14 分类号: C30B25/14;C30B25/08;C30B25/10
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 张景林;王恩远
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种具有水平式多孔喷淋装置的光辅助型MOCVD反应器,属于超导薄膜制备技术领域。其包括上下两个腔,上腔为由灯罩(1)和隔离板(2)围成的灯腔,下腔为反应腔;反应腔由水平喷淋头(4)、反应腔侧壁(5)和反应腔底座(7)围成;水平喷淋头(4)为具有一定厚度的长方体形结构,其由两个进气口、一个混气腔、多个等径等间距小出气孔和圆柱形空腔组成,多个小出气孔的出口均设置在圆柱形空腔内,水平喷淋头(4)安装在反应腔侧壁(5)的上方并与之焊接在一起。使用水平喷淋头增加了进气的横向分布均匀性,配合可旋转的基座可以确保基片生长速度的径向均匀,从而可确保至少3片直径2英寸的超导外延片均匀生长。
搜索关键词: 具有 水平 多孔 喷淋 装置 辅助 mocvd 反应器
【主权项】:
一种具有水平式多孔喷淋装置的光辅助MOCVD反应器,包括上下两个腔,上腔为灯腔,由灯罩(1)和隔离板(2)围成;下腔为反应腔,其特征在于:反应腔由水平喷淋头(4)、反应腔侧壁(5)和反应腔底壁(7)围成;水平喷淋头(4)为具有一定厚度的长方体形结构,其由两个进气口、一个混气腔、多个等径等间距小出气孔和圆柱形空腔组成,多个小出气孔的出口均设置在圆柱形空腔内,水平喷淋头(4)安装在反应腔侧壁(5)的上方并与之焊接在一起。
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