[发明专利]喷墨基底用处理剂

摘要

本发明提供通过喷墨印刷法能够以相当于光刻法的精度进行规定的图案形成的喷墨印刷用基底处理剂。本发明的喷墨基底用处理剂是预先对喷墨印刷中使用的基材实施表面处理的喷墨基底用处理剂，其至少含有粘合剂树脂(A)、含氟低聚物(B)、光致产酸剂(C)及溶剂(D)，作为含氟低聚物(B)含有以通式(1)的含氟单体为必须成分聚合而成的共聚物，通过该基底处理剂形成的树脂层通过介由图案掩模的光照射或介由图案掩模的光照射和加热，能够进行亲疏液图案形成。

主权项

1.一种喷墨基底用处理剂，其为预先对喷墨印刷中使用的基材实施表面处理的喷墨基底用处理剂，其特征在于，该基底处理剂至少含有粘合剂树脂(A)、含氟低聚物(B)、光致产酸剂(C)及溶剂(D)，通过该基底处理剂形成的树脂层通过介由图案掩模的光照射或介由图案掩模的光照射和加热，能够形成具备亲液部分和疏液部分的亲疏液图案，该树脂层实施光照射或光照射和加热之前的相对于二甘醇单乙基醚乙酸酯的接触角为40°以上，并且实施了光照射或光照射和加热的部分相对于二甘醇单乙基醚乙酸酯的接触角为15°以下，作为含氟低聚物(B)，含有以下述通式(1)的含氟单体为必须成分聚合而成的共聚物，[化1]通式(1)中的R1为氢原子或甲基，X为直接键合、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-CH₂OC(=O)-中的任一种，Y为直接键合或碳数为1～10个、可含有氧原子和/或氮原子的2价有机基团，Ar为通式组(2)中记载的结构的任一种；[化2]R2～R57各自独立地为氢原子、烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环烃基、芳氧基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、羟基(聚)亚烷基氧基、可被取代的氨基、氰基、硝基或卤原子，R2～R7中的1个、R8～R15中的1个、R16～R25中的1个、R26～R31中的1个、R32～R39中的1个、R40～R47中的1个及R48～R57中的1个分别为通式(1)中的X，并且R2～R7中的至少1个、R8～R15中的至少1个、R16～R25中的至少1个、R26～R31中的至少1个、R32～R39中的至少1个、R40～R47中的至少1个及R48～R57中的至少1个分别为Rf-O-，其中Rf表示下述通式组(3)的任一种，M为氧原子、硫原子、>N-R58中的任一种，R58是碳数为1～10个、可含有氧原子和/或氮原子的1价有机基团；[化3]