[发明专利]一种超导腔的制备方法有效
申请号: | 201310577308.8 | 申请日: | 2013-11-18 |
公开(公告)号: | CN103619119A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 何源;张生虎;岳伟明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | H05H7/00 | 分类号: | H05H7/00;B22F3/105;C04B35/58 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 张真 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明主要涉及射频超导加速腔的制造。一种超导腔的制备方法,包括使用CAD软件生成超导腔模型,采用分层软件对其进行分层;使用真空系统为成型室提供真空环境;将超导材料粉末摊铺到成形室成型台上;根据超导腔切片层的软件模型描述,将电子束能量“打印”到粉末层上,产生超导材料切片层实体,该实体成为超导腔体的一部分;下一切片层又在第一个切片层实体上面继续被加工,一直到整个超导腔加工过程完成。本发明方法,缩短了超导腔研制周期;整个超导腔无焊缝,提高了超导腔研制的成品率;能保证超导材料的纯度;不受冲压成形条件的限制,可以提高超导腔的性能;制造过程中多余的超导材料粉末可以重复使用,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 超导 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种超导腔的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)制备:1)原材料为超导材料粉末:粉末微粒粒度为小于50μm、纯度好于99%;2)使用CAD软件生成超导腔模型,采用分层软件对其进行分层,每个切片层描述确定高度为小于0.5mm的超导腔体的横截面;3)使用真空系统为成型装置内提供真空环境,真空室真空度好于1×10‑3Pa;4)将步骤1)的超导材料粉末摊铺到成型装置的超导腔的成型台上;5)使用控制系统,根据超导腔切片层的软件模型描述,将电子束能量“打印”到粉末层上,电子束流功率在50W‑4kW之间,电子束流强度为1‑50mA,产生超导材料切片层实体,该实体成为超导腔体的一部分;下一切片层又在第一个切片层实体上面继续被加工,一直到整个超导腔加工过程完成。
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