[发明专利]制备晶体硅太阳能电池氧化硅膜的方法有效

专利信息
申请号: 201310574354.2 申请日: 2013-11-15
公开(公告)号: CN103594557A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 倪健雄;李高非;韩帅;蒋京娜 申请(专利权)人: 英利集团有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种制备晶体硅太阳能电池氧化硅膜的方法。该方法包括将硅片置于纳米二氧化钛水分散液中,采用紫外光照射硅片,然后将硅片取出、烘干。应用本发明的技术方案,利用纳米二氧化钛在紫外光下的强氧化性,使置于纳米TiO2水分散液中的硅片表面氧化生成厚度可控的氧化硅膜,其中纳米TiO2作为催化剂参与反应,原料消耗极少,同时此方法所需设备简单,不需要采用复杂的真空镀膜设备,工艺操作简单,能够有效降低生产成本,适于大规模生产。同时纳米TiO2在氧化太阳能硅片的同时,在与太阳能硅片被氧化区域水分子会被部分还原为氢气,此部分氢气部分渗透到氧化硅膜中,从而提高氧化硅膜层质量。
搜索关键词: 制备 晶体 太阳能电池 氧化 方法
【主权项】:
一种制备晶体硅太阳能电池氧化硅膜的方法,其特征在于,将硅片置于纳米二氧化钛水分散液中,采用紫外光照射所述硅片,然后将所述硅片取出、烘干。
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