[发明专利]内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310537478.3 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN103550794A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 高锦豪;赵征寰;陈小元;池小琴;杨丽娇;黄登通 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: A61K49/18 分类号: A61K49/18;A61K49/08
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂的制备方法,涉及造影剂。1)在惰性气体氛围中,将铁元素的金属盐溶解于十八烯中,加入油酸、超纯水和氯化钠,所得溶液升温至回流状态进行回流反应;2)将步骤1)回流反应后的反应液自冷却至室温,并加入乙醇使产物沉淀,再进行离心处理后弃去上清液,将沉淀重新溶解并保存于溶剂中,即得到内凹形四氧化三铁纳米颗粒,即为内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂。步骤简易,操作方便,产量较高,易于放大制备;所制备的内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂具有很强的T2磁共振造影性能,从而能为磁共振成像对疾病的临床研究及诊断提供更精确和更可靠的依据。
搜索关键词: 凹形 氧化铁 sub 暗场 磁共振 成像 造影 制备 方法
【主权项】:
内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)在惰性气体氛围中,将铁元素的金属盐溶解于十八烯中,加入油酸、超纯水和氯化钠,所得溶液升温至回流状态进行回流反应;2)将步骤1)回流反应后的反应液自冷却至室温,并加入乙醇使产物沉淀,再进行离心处理后弃去上清液,将沉淀重新溶解并保存于溶剂中,即得到内凹形四氧化三铁纳米颗粒,即为内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂。
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