[发明专利]电流收集层结构有效

专利信息
申请号: 201310489220.0 申请日: 2013-10-18
公开(公告)号: CN104425051A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 吴以舜;谢承佑;郑叡骏;谢淑玲;陈静茹 申请(专利权)人: 安炬科技股份有限公司
主分类号: H01B1/04 分类号: H01B1/04;H01B1/02;H01B5/00
代理公司: 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 代理人: 刘俊
地址: 中国台湾宜*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种电流收集层结构,包含金属箔基层及石墨烯导电层,石墨烯导电层厚度为0.1μm~5μm,且电阻值小于1Ω·cm,石墨烯导电层包含多个石墨烯片,以及高分子黏结剂,高分子黏结剂用以将所述石墨烯片粘着于该金属箔基层之上,并且将所述石墨烯片相互黏接,且该高分子黏结剂与石墨烯导电层的重量百分比为0.01wt%至10wt%,藉由添加高分子黏结剂,增加了整体电流收集层结构的附着强度,形成完整的导电网络,且高分子黏着剂与电化学元件内活性物质的黏结剂兼容,使电化学元件的活性物质与石墨烯导电层紧密结合,将两者的接触电阻降至最低,进而大幅提升电化学元件性能。
搜索关键词: 电流 收集 结构
【主权项】:
一种电流收集层结构,其特征在于,包含:一金属箔基层;以及一石墨烯导电层,设置在该金属箔基层的至少一表面上,且该石墨烯导电层包含多个石墨烯片,以及一高分子黏结剂,该高分子黏结剂用以将所述石墨烯片粘着于该金属箔基层上,并且将所述石墨烯片相互黏接,其中所述石墨烯片呈片状,厚度为1nm~50nm,且平面横向尺寸为1μm~50μm。
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