[发明专利]梅花型掩膜版以及利用梅花型掩膜版制造图形化衬底的方法有效
| 申请号： | 201310473082.7 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN103576440B | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 缪炳有;张汝京;黄宏嘉;邓觉为;许继仁;商毅博;王岩;韩沈丹 | 申请（专利权）人： | 西安神光安瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;H01L33/22 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 倪金荣 |
| 地址： | 710100 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出了一种梅花型掩膜版，包括光刻板，光刻板上设置梅花型阵列单元，梅花型阵列单元包括多个梅花型单元，梅花型单元包括外圆环和与外圆环内径相切的内圆。本发明的一种梅花型掩膜版以及利用梅花型掩膜版制造图形化衬底的方法，减少外延生长缺陷，增加光提取效率，从而提高GaN基LED发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 梅花 型掩膜版 以及 利用 制造 图形 衬底 方法 | ||
【主权项】：
一种梅花型掩膜版，包括光刻板，其特征在于：所述光刻板上设置梅花型阵列单元，所述梅花型阵列单元包括多个梅花型单元，所述梅花型单元包括外圆环和与外圆环内径相切的内圆；所述梅花型单元两两之间相邻的距离相等；所述内圆的数量为三个或多个。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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