[发明专利]一种超疏液表面的制备方法无效
| 申请号： | 201310471760.6 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN103569950A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 吴天准;袁丽芳;王磊;王智伟;项荣;汤子康 | 申请（专利权）人： | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 任葵 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种超疏液表面的制备方法，包括：在基板上涂覆具有黏附性的高分子涂层；在所述高分子涂层上刻蚀获得T型微纳米结构；使用加热可固化材料转印获得T型微纳米结构；对所述转印获得的T型微纳米结构进行疏水处理，使所述转印获得的T型微纳米结构的表面形成疏水薄膜。由于本申请使用加热可固化材料转印获得的T型微纳米结构，做为柔性模板，从而在多种可固化的高分子材料获得T型微纳米结构，不仅可保持高质量的超疏水超疏油性能，还具有柔性、透明等新特性。相比原有的Si深刻蚀工艺，成本显著降低。此外，高分子材料的易脱模、高精度、耐用性，使得两次软复制过程均可多次重复，因此显著稀释了制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超疏液 表面 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超疏液表面的制备方法，其特征在于，包括：在基板上涂覆具有黏附性的高分子涂层；在所述高分子涂层上刻蚀获得T型微纳米结构；使用加热可固化材料转印获得T型微纳米结构；对所述转印获得的T型微纳米结构进行疏水处理，使所述转印获得的T型微纳米结构的表面形成疏水薄膜。
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