[发明专利]具电磁遮蔽的无镀层铜线及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310466029.4 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN104517687B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 吕传盛;洪飞义 申请(专利权)人: 吕传盛;洪飞义
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B1/02;H01L23/49
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 韩蕾
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明是有关于一种具电磁遮蔽的无镀层铜线及其制造方法,所述方法是首先将钛锡合金层形成于铜芯线的表面,再将金镍合金层形成于钛锡合金层的表面,最后将铜芯线进行真空热处理,使得钛锡合金层以及金镍合金层可完全扩散至芯线的基地组织,并于芯线组织中形成均匀的Cu(TiSn)xAuyNiz合金层;藉此,本发明的无镀层铜线不仅具有抗电磁干扰以及改善高频的表面效应,亦可大幅提升线材拉伸强度与打线接合强度,进而提高接合线后续工艺的可靠度。
搜索关键词: 电磁 遮蔽 镀层 铜线 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具电磁遮蔽的无镀层铜线的制造方法,该方法包括有下述步骤:步骤一:准备纯铜所制成的芯线;步骤二:将钛锡合金层形成于所述芯线的表面,所述钛锡合金层是由包含65重量百分比至75重量百分比的钛以及剩余重量百分比的锡所构成;步骤三:于所述钛锡合金层的表面形成金镍合金层,所述金镍合金层是由包含92重量百分比至99重量百分比的金以及剩余重量百分比的镍所构成;以及步骤四:进行真空热处理,使所述钛锡合金层以及金镍合金层完全扩散至芯线的基地组织中,并于芯线组织的表面形成均匀Cu(TiSn)xAuyNiz合金层;其中0<x<1,0<y<1,0<z<1,且x+y+z=1。
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