[发明专利]光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法

摘要

本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法，可以对IC制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测参数的数值。

主权项

一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法，用于对IC制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量，所述方法包括以下步骤：步骤102，根据工艺条件确定纳米结构的特性参数及其变化范围，其中，特性参数包括结构参数和粗糙度特征参数；步骤104，生成仿真纳米结构；步骤106，基于所述仿真纳米结构，运用严格建模方法计算理论光谱；步骤108，运用基于等效建模方法的参数提取算法，针对理论光谱进行参数提取，其中，所述等效建模方法使用等效介质近似（EMA）模型，将所述仿真纳米结构的粗糙边界等效为一层薄膜；步骤110，建立所述仿真纳米结构的待测参数与提取参数间的参数映射关系式；步骤112，确定当其它参数变化时所建立的参数映射关系式的稳定性；步骤114，选出最优测量配置和最优等效介质模型，其中，从多个测量配置和EMA模型中，选出对应参数映射关系式的稳定性最好的测量配置和EMA模型，作为最优测量配置和最优等效介质模型；步骤116，利用所述最优测量配置、最优等效介质模型和对应于所述最优测量配置和最优等效介质模型的参数映射关系式，对实际纳米结构进行光谱测量与特性参数提取。