[发明专利]用于将粘性材料层施加至基底上的作用元件、装置和方法在审
申请号: | 201310446342.1 | 申请日: | 2013-09-26 |
公开(公告)号: | CN103706513A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | J·艾希纳;R·弗莱希曼;T·C·皮尔茨 | 申请(专利权)人: | 威亚光电子有限公司 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/10;B05D1/26;B32B7/12 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 吴鹏;马江立 |
地址: | 德国施瓦*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于作用元件将粘合剂施加在基底上的装置,所述作用元件具有多个终止在排出开口(10)中的排出通道(11),所述排出通道分别导致作用于粘合剂的流动阻力,所述装置的特征在于,所述作用元件包括用于影响所述作用元件的所述连接开口和所述排出通道(11)的所述排出开口(10)之间的流动阻力的至少一个构造。 | ||
搜索关键词: | 用于 粘性 材料 施加 基底 作用 元件 装置 方法 | ||
【主权项】:
用于将粘性材料(2)施加在基底(3)上的作用元件(5),包括:a.至少一个终止在连接开口(7)中的连接通道(6),b.多个终止在排出开口(10)中的排出通道(11),所述排出通道通过连接室(20)与所述连接通道(6)流动连接,c.在连接开口(7)与每个所述排出开口(10)之间的区域中在粘性材料(2)上作用有流动阻力,d.其特征在于,作用元件(5)包括用于对作用元件(5)的连接开口(7)与排出通道(11)的排出开口(10)之间的流动阻力进行影响的至少一个构造。
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