[发明专利]金属清洗剂有效
| 申请号： | 201310443727.2 | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103510100B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 杨桂望 | 申请（专利权）人： | 大连三星五洲化工有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/18 | 分类号： | C23G1/18 |
| 代理公司： | 北京华识知识产权代理有限公司 11530 | 代理人： | 乔浩刚 |
| 地址： | 116023 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种金属清洗剂，其包括：消泡剂0.3％～5％、阳离子表面活性剂1％～15％、阴离子表面活性剂1％～10％、非离子表面活性剂3％～15％、清洗主剂20％～40％、缓蚀剂2%～5％和余量去离子水。本发明提供的金属清洗剂具有低碱、低泡、环保的优势，在较低温度下即有很强去油效果，且腐蚀性非常低。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 洗剂 | ||
【主权项】：
1.一种金属清洗剂，其特征在于，包括：消泡剂0.3％～5％、阳离子表面活性剂1％～15％、阴离子表面活性剂1％～10％、非离子表面活性剂3％～15％、清洗主剂20％～40％、缓蚀剂2％～5％和余量去离子水；所述清洗主剂由磷酸钠和硅酸钠构成，磷酸钠和硅酸钠之间的重量比为2～4：1；所述的缓蚀剂为唑类化合物和高分子缓蚀化合物，且两者的质量比为1：2～4；所述唑类化合物为苯并三氮唑、1‑苯基‑5‑巯基‑四氮唑、2‑巯基‑苯并噻唑、苯并咪唑、2‑巯基苯并咪唑或5‑氨基‑1H‑四氮唑；所述高分子缓蚀化合物为含羟基聚合物和含羧基聚合物中的一种或多种。
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