[发明专利]半导体清洗组合物有效
| 申请号： | 201310439776.9 | 申请日： | 2013-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN103513522B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 杨高林 | 申请（专利权）人： | 青岛果子科技服务平台有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266101 山东省青岛市崂*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物的清洗组合物，其特征在于：包括小分子抑制剂混合物、溶剂、季铵氢氧化物、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、烷基二醇芳基醚。该清洗组合物降低对晶片图形和对铝和铜等金属，以及二氧化硅等非金属基材的腐蚀，尤其是其含有的小分子抑制剂对金属铝的腐蚀表现出良好的抑制作用。 | ||
| 搜索关键词： | 小分子抑制剂 清洗组合物 烷基二醇芳基醚 光刻胶残留物 季铵氢氧化物 腐蚀 柠檬酸 半导体清洗 非金属基材 缓冲水溶液 二氧化硅 晶片图形 柠檬酸盐 混合物 金属铝 溶剂 去除 金属 表现 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除光刻胶残留物的清洗组合物，其特征在于：由小分子抑制剂混合物、溶剂、季铵氢氧化物、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、烷基二醇芳基醚组成；所述的柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液在清洗组合物中的含量为质量百分比30％～50％，所述小分子抑制剂的含量为0.5％～15％，所述溶剂的含量为30％～60％，所述季铵氢氧化物的含量为0.1～15％、所述烷基二醇芳基醚的含量为1～15％；所述小分子抑制剂混合物是肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基异恶唑构成的混合物；所述肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基异恶唑混合质量比为1:1.2～1.5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛果子科技服务平台有限公司，未经青岛果子科技服务平台有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310439776.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
