[发明专利]一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法无效

专利信息
申请号: 201310432152.4 申请日: 2013-09-18
公开(公告)号: CN103515545A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 王莉;丁玉成;罗钰;李龙;严诚平;卢秉桓 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 蔡和平
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法,属于OLED制造技术领域,包括以下步骤:1)在石英基片的双面同时旋涂单层二氧化硅纳米球;2)以排布好的单层二氧化硅纳米球为掩膜,在石英基片的双面刻蚀亚微米级图形结构;3)在具有亚微米图形结构的石英基片上均匀旋涂一层ITO导电薄膜,得到OLED阳极;4)在OLED阳极上依次蒸镀空穴输送层,蒸镀发光层和电子运输层,最后蒸镀阴极,得到具有双面亚微米级结构的OLED。本发明制得的石英基底含有双面结构的OLED器件,其出光模型接近于朗伯体,没有谱线偏移和明显的角度依赖性,在提升器件光萃取效率的同时无性能的退化。
搜索关键词: 一种 具有 双面 微米 结构 oled 制造 方法
【主权项】:
一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在石英基片的双面同时旋涂单层二氧化硅纳米球;2)以排布好的单层二氧化硅纳米球为掩膜,在排布好二氧化硅纳米球的石英基片的双面刻蚀亚微米级图形结构;3)在具有亚微米图形结构的石英基片上均匀旋涂一层ITO导电薄膜,得到OLED阳极;4)在OLED阳极上依次蒸镀空穴输送层,蒸镀发光层和电子运输层,最后蒸镀阴极,得到具有双面亚微米级结构的OLED。
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