[发明专利]一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法无效
申请号: | 201310432152.4 | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN103515545A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 王莉;丁玉成;罗钰;李龙;严诚平;卢秉桓 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法,属于OLED制造技术领域,包括以下步骤:1)在石英基片的双面同时旋涂单层二氧化硅纳米球;2)以排布好的单层二氧化硅纳米球为掩膜,在石英基片的双面刻蚀亚微米级图形结构;3)在具有亚微米图形结构的石英基片上均匀旋涂一层ITO导电薄膜,得到OLED阳极;4)在OLED阳极上依次蒸镀空穴输送层,蒸镀发光层和电子运输层,最后蒸镀阴极,得到具有双面亚微米级结构的OLED。本发明制得的石英基底含有双面结构的OLED器件,其出光模型接近于朗伯体,没有谱线偏移和明显的角度依赖性,在提升器件光萃取效率的同时无性能的退化。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 双面 微米 结构 oled 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有双面亚微米级结构的OLED的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在石英基片的双面同时旋涂单层二氧化硅纳米球;2)以排布好的单层二氧化硅纳米球为掩膜,在排布好二氧化硅纳米球的石英基片的双面刻蚀亚微米级图形结构;3)在具有亚微米图形结构的石英基片上均匀旋涂一层ITO导电薄膜,得到OLED阳极;4)在OLED阳极上依次蒸镀空穴输送层,蒸镀发光层和电子运输层,最后蒸镀阴极,得到具有双面亚微米级结构的OLED。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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