[发明专利]晶种层激光诱导的沉积

摘要

一种在基底表面上以第一靶图案生成靶沉积材料层的方法。将该基底表面放置在真空中并且将其暴露于具有用于一种晶种沉积材料的前体分子的第一化学蒸气中，由此形成已经吸附了这些前体分子的第一基底表面区域。然后，将一个带电粒子束以第二靶图案应用于第一基底表面区域上，该第二靶图案大体上与第一靶图案相同，由此以第三靶图案形成一个晶种层。将该晶种层暴露于具有靶沉积材料前体分子的第二化学蒸气中，这些前体分子被吸附至该晶种层上。最后，将一个激光束应用于该晶种层和邻近区域，由此在已经暴露于该激光束的该晶种层上以及其附近形成一个靶沉积材料层。

主权项

一种生成靶沉积材料层的方法，该方法包含：将一个基底表面放置在真空中并且将所述基底表面暴露于由用于一种晶种沉积材料的前体分子组成的第一化学蒸气中，由此形成已经吸附了用于所述晶种沉积材料的所述前体分子的第一基底表面区域；将一个带电粒子束应用于所述第一基底表面区域，由此在所述带电粒子束与所述第一基底表面的相交处以及其附近形成一个催化性晶种层；将所述催化性晶种层暴露于具有靶沉积材料前体分子的第二化学蒸气中，由此导致这些靶沉积材料前体分子变成被吸附到所述催化性晶种层上以及其附近；将一个激光束应用到所述催化性晶种层上，由此在所述激光束已经被应用的所述催化性晶种层上以及其附近形成一个靶沉积材料层，其中，将所述基底表面暴露于由用于一种晶种沉积材料的前体分子组成的第一化学蒸气中包括通过改变光学吸收特性、改变该靶沉积材料前体气体的黏附系数/停留时间、和/或降低解离的活化障碍来促进所述靶沉积材料的后续沉积。