[发明专利]离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法有效
| 申请号： | 201310352798.1 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103396013A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 顾海波 | 申请（专利权）人： | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B32B17/06 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 226001 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上设有依次设有氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnALOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx；离线高透净色低辐射镀膜玻璃的制备方法为：在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中，使其基础真空达到10ֿ³Pa，线速度为3米/分钟时，在玻璃上依次溅射氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnAlOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx。本发明具有在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上，能够同时实现膜层对自然光的高透过率82.5-83%的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 离线 高透净色低 辐射 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种可钢离线高透净色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于：所述玻璃基片上依次设有第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx、第一金属镍铬NiCr、金属银Ag、第二金属镍铬NiCr、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，所述玻璃基片的厚度为3mm～15mm，所述第一氮化硅SiNx的厚度为37nm～45nm，所述第一氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，所述第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，所述金属银Ag的厚度为10nm～15nm，所述第二金属镍铬NiCr的厚度为1nm～5nm，所述第二氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm～20nm，所述第二氮化硅SiNx的厚度为45nm～50nm。
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