[发明专利]一种用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层无效
申请号: | 201310348239.3 | 申请日: | 2013-08-09 |
公开(公告)号: | CN103420617A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 杜海燕;巩晓晓;张晓艳;胡小侠;张顶印 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C03C17/22 | 分类号: | C03C17/22 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 张宏祥 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于石英陶瓷坩埚的高强度氮化硅涂层,其原料组分及其重量百分比含量为:氮化硅粉末86~87.5%,氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5~14%。本发明通过在氮化硅涂层中引入适量的氧化硼,使其在氮化硅涂层高温处理过程中与石英坩埚表面发生反应,生成粘结相硼硅酸盐,增强氮化硅涂层与石英陶瓷坩埚结合强度,消除了铸锭多晶硅晶体的粘埚和裂锭现象;对于氮化硅涂层的研究有着深远而广泛的意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 石英 陶瓷 坩埚 结合 强度 氮化 涂层 | ||
【主权项】:
一种用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层,其原料组分及其重量百分比含量为:氮化硅粉86~87.5%,氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5~14%;该用于石英陶瓷坩埚的高结合强度氮化硅涂层的制备方法,具有如下步骤:(1)按照原料组分及其重量百分比含量:氮化硅粉86~87.5%,氧化硼粉、硼酸粉或者硼砂粉12.5~14%进行配料,以去离子水作分散介质,混合后制备成浆料,去离子水的重量为上述原料总重量的25~186%;(2)将步骤(1)的浆料通过喷涂、刷涂或流延的方法粘附在石英陶瓷坩埚内壁,初始膜厚为1~2000微米;(3)将步骤(2)内壁粘附有浆料的石英陶瓷坩埚置于高温炉中进行热处理,热处理温度为1000℃~1300℃,处理时间为0.5~10小时。
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