[发明专利]光记录介质及用于制造光记录介质的方法无效
申请号: | 201310343779.2 | 申请日: | 2013-08-08 |
公开(公告)号: | CN103632686A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 上田大辅;坂本哲洋 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;褚海英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 发明公开了一种光记录介质及用于制造这种光记录介质的方法。所述光记录介质包括基板、信息层和光透射层。在与所述光记录介质的外圆周端相距的距离不小于1.0mm且小于1.5mm的位置以内都存在有信号区域,在该信号区域中是通过经由所述光透射层对所述信息层进行光照射来记录和/或复制信息信号的。所述方法包括:形成信息层;通过用喷墨法涂布紫外线硬化型树脂来形成涂布树脂层;以及在形成所述涂布树脂层之后,通过用紫外线照射使所述涂布树脂层硬化来形成光透射层。根据本发明,能够通过扩展信号区域来实现大容量。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 用于 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光记录介质,其包括:基板;信息层;和光透射层,其中,在与所述光记录介质的外圆周端相距的距离不小于1.0mm且小于1.5mm的位置以内都存在有信号区域,在所述信号区域中是通过经由所述光透射层对所述信息层进行光照射来记录和/或复制信息信号的。
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