[发明专利]一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺无效
| 申请号： | 201310342463.1 | 申请日： | 2013-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN104342709A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 杨其祥 | 申请（专利权）人： | 天津祥和兴金属制品有限公司 |
| 主分类号： | C23F17/00 | 分类号： | C23F17/00;C25D13/12;B23K26/362;C23F1/02;C23G1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300270 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，涉及到对金属件的蚀刻加工。包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。以上所述的电泳涂装工序连接数控系统，并由数控系统自动控制。其有益效果是，工艺设置合理，采用多次水洗方式，减少了不同工序中药液残留，所得产品纹饰无走样现象，产品精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 工件 涂装镭雕 蚀刻 新工艺 | ||
【主权项】：
一种金属工件的涂装镭雕蚀刻新工艺，其特征是：包括用于对电子件进行覆膜的电泳涂装工序、用于对电子件进行雕花的镭雕工序、用于对电子件的覆膜进行图文处理的蚀刻工序、用于对电子件覆膜进行脱离的脱膜工序，还包括废水回收工序，所述的废水回收工序用于对电泳涂装工序、蚀刻工序、脱膜工序中产生的废水进行回收利用。
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