[发明专利]基板清洗装置、基板清洗系统以及基板清洗方法有效
| 申请号： | 201310334657.7 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103567169A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 金子都;折居武彦;志村悟;山下刚秀;菅野至 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供基板清洗装置、基板清洗系统以及基板清洗方法。在抑制图案塌陷、基底膜的侵蚀的同时将附着于基板的微粒去除。实施方式的基板清洗装置包括第1液供给部和第2液供给部。第1液供给部用于向基板供给处理液，该处理液含有挥发成分，用于在基板上形成膜。第2液供给部用于对被第1液供给部供给到基板上的、因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化了的处理液供给用于将处理液全部去除的去除液。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种基板清洗装置，其特征在于，该基板清洗装置包括：第1液供给部，其用于向基板供给处理液，该处理液含有挥发成分，用于在上述基板上形成膜；以及第2液供给部，其用于对被上述第1液供给部供给到上述基板上的、因上述挥发成分挥发而在上述基板上固化或硬化了的处理液供给用于将该处理液全部去除的去除液。
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