[发明专利]反应腔室及外延生长设备

摘要

本发明提供的反应腔室及外延生长设备，其包括托盘及感应线圈，托盘采用磁导体材料制作，且设置在反应腔室内，并且在托盘上设置有多个沿其周向排列的承载位，用以承载被加工工件；感应线圈环绕在反应腔室的侧壁上，用以采用感应加热的方式加热托盘，在托盘上方设置有反射部件，反射部件用于将由所述托盘辐射至反射部件上的热量，朝向置于该托盘的各个承载位上的被加工工件的低温区域反射，以补偿被加工工件的低温区域与高温区域之间的温度差。本发明提供的反应腔室，其可以使被加工工件的径向温度趋于均匀，从而可以提高外延生长设备的工艺均匀性。

主权项

一种反应腔室，其包括托盘及感应线圈，所述托盘采用磁导体材料制作，且设置在所述反应腔室内，并且在所述托盘上设置有多个沿其周向排列的承载位，用以承载被加工工件；所述感应线圈环绕在所述反应腔室的侧壁上，用以采用感应加热的方式加热所述托盘，其特征在于，在所述托盘的上方设置有反射部件，所述反射部件用于将由位于其下方的托盘辐射至所述反射部件上的热量，朝向置于该托盘的各个承载位上的被加工工件的低温区域反射，以补偿所述被加工工件的低温区域与高温区域之间的温度差；所述被加工工件的低温区域和高温区域，为由所述托盘的中心朝向边缘的方向预定划分的两个区域。