[发明专利]反应腔室及外延生长设备

摘要

本发明提供的反应腔室及外延生长设备，其包括设置在其内的多个托盘，以及环绕在其外周壁上的感应线圈；感应线圈与交流电源连接，用以采用感应加热的方式加热托盘，其包括至少两个彼此独立的子线圈，且沿反应腔室的外周壁的周向排列；交流电源的数量与子线圈的数量相对应，且二者一一对应地电连接，通过独立控制每个交流电源向与之对应的子线圈提供的交变电流的相位和/或大小，使由各个子线圈产生的交变磁场相互作用，以使每个托盘各个区域的温度趋于均匀。本发明提供的反应腔室可以在对设置于反应腔室中的托盘进行加热，并使每个托盘上的各个区域具有均匀的温度，以提高工艺的均匀性。

主权项

一种反应腔室，包括设置在其内的多个托盘，以及环绕在所述反应腔室的外周壁上的感应线圈，其中，所述多个托盘采用磁导体材料制作，且沿竖直方向间隔设置，用以承载被加工工件；所述感应线圈与交流电源连接，用以采用感应加热的方式加热所述托盘，其特征在于，所述感应线圈包括至少两个彼此独立的子线圈，且沿所述反应腔室的周向排列；所述交流电源的数量与所述子线圈的数量相对应，且二者一一对应地电连接，通过独立控制每个所述交流电源向与之对应的所述子线圈提供的交变电流的相位和/或大小，使由各个子线圈产生的交变磁场相互作用，以使每个托盘各个区域的温度趋于均匀。