[发明专利]一种含POSS减反射膜镀膜液及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201310241641.1 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103305036A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 张方方;黄驰;易生平 | 申请（专利权）人： | 武汉绿凯科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00;C09D7/12;C09D183/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 张火春 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖开发区*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含POSS减反射膜镀膜液及其制备方法与应用，属于镀膜液领域。含POSS减反射膜镀膜液的制备方法包含如下步骤：往溶剂中加入如下质量百分含量的原料：0.01～20wt%的POSS衍生物、0～10wt%的纳米二氧化硅颗粒、0～10wt%的中空二氧化硅、0～5wt%的非硅纳米氧化物颗粒、0～10wt%有机硅化合物、0～50wt%的去离子水和0～2%催化剂，于20～150℃条件下反应0～45h得到含POSS减反射膜镀膜液。该含POSS减反射膜镀膜液可应用于光伏玻璃、显示屏基板玻璃、建筑玻璃、汽车玻璃上，得到的减反射膜膜层均匀性好、附着力和硬度高、耐候性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 poss 减反射膜 镀膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种含POSS减反射膜镀膜液的制备方法，其特征在于包含如下步骤：往溶剂中加入如下质量百分含量的原料：0.01～20wt%的POSS衍生物、0～10wt%的纳米二氧化硅颗粒、0～10wt%的中空二氧化硅、0～5wt%的非硅纳米氧化物颗粒、0～10wt%有机硅化合物、0～50wt%的去离子水和0～2%催化剂，于20～150℃条件下反应0～45 h得到。
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