[发明专利]一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法

摘要

本发明提供一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，包括以下步骤：1)准备原材料以及摩尔配比；2)将混合均匀的粉料加入坩埚中并熔融；3)玻璃液降温后，将其注入模具中成型；4)将玻璃进行退火；即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。本发明解决了光栅、分光膜、分光棱镜在强激光下分光的损伤问题，提高激光器的负载能力，在近紫外波段高透，具很好的成玻性能，同时材料还具有高的激光损伤阈值，可作为基频光吸收材料用于强激光领域。

主权项

一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1】准备原材料，其中原材料各组分的配比如下：玻璃组分    摩尔百分数mol%AlF3：         31～35BaF2：         20～30MgF2           10～15SiO2           21～27Y2O3：         3～4.5FeO：          2～4各组分配比之和为100%，根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量，称取原材料各组分，混合均匀成粉料；2】将混合均匀的粉料加入坩埚中，通过电熔炉加热熔融，熔制温度控制在1050‑1150℃，并不断搅拌；3】待熔融得到完全澄清的高温玻璃液且降温至900‑950℃时，将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；4】将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中，以10℃/小时速率进行退火，直到温度降到50℃，关闭马弗炉，降温至室温，最后取出成品，即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。