[发明专利]一种WO3电致变色薄膜的制备方法

摘要

WO3薄膜具有可见光透射率调节范围大、着色效率高、响应时间短、循环稳定性好和环境友好等优点。基于WO3薄膜的电致变色器件可广泛应用于建筑、汽车等作为节能灵巧窗。本发明涉及WO3光电功能材料，提供了一种薄膜质量好、厚度均匀、变色响应时间短的WO3电致变色薄膜的制备方法。本发明以WO3为靶材，利用射频磁控溅射方法在透明导电ITO玻璃衬底上制备电致变色WO3薄膜。本发明制备工艺简单，容易控制，重复性好，沉积速率稳定，便于大规模生产制备。

主权项

一种WO3电致变色薄膜的制备方法，其特征在于，采用射频磁控溅射技术，以WO3陶瓷为阴极靶材，在ITO衬底上沉积WO3薄膜，具体包括以下步骤：步骤1、对ITO玻璃衬底进行清洗；步骤2、将ITO玻璃衬底固定在射频磁控溅射设备真空室内的衬底平台上，将WO3靶材安装在射频磁控溅射设备真空室内的靶位上，调节靶材与衬底之间的距离，对射频磁控溅射设备真空室抽真空；步骤3、将氩气通入真空室，调节氩气气压，之后打开射频电源开关，靶材起辉后通入氧气，调节氩气与氧气流量，并调节闸板阀，使真空室内气压固定，之后对WO3靶材进行预溅射清洗；步骤4、加热衬底，使衬底达到所需温度；步骤5、将衬底平台转至靶材正上方，转动挡板，使靶材与衬底间无遮挡，调节靶材与衬底之间的距离、氩气流量、氧气流量、衬底温度、溅射功率以及溅射时间这些工艺参数，在ITO玻璃上沉积WO3薄膜；步骤6、沉积结束后，依次关闭射频电源开关、衬底加热开关、分子泵以及机械泵，将挡板和衬底平台复位，待衬底在真空室中冷却到室温，打开真空室取出样品。