[发明专利]一种OLED微型显示器的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310162003.0 申请日: 2013-05-06
公开(公告)号: CN103258972A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 杨丽丽;段瑜;杨炜平;朱亚安;季华夏 申请(专利权)人: 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 和琳
地址: 650223 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 一种OLED微型显示器的制备方法,涉及有机发光领域,尤其是一种取消光刻胶工序,简化OLED显示器制作过程的OLED微型显示器的制备方法。本发明的一种OLED微型显示器的制备方法,其特征在于该制备方法先用有机薄膜在PAD接口上形成一层底膜,再采用掩膜版的方式在PAD接口及显示器发光区域上蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层和密封薄膜层等蒸镀层,蒸镀层在PAD接口上形成保护膜层,之后再采用特定波长的激光轰击PAD接口,去除PAD接口上的底膜以及蒸镀层,暴露出干净的PAD接口。本发明的一种OLED微型显示器的制备方法,采用掩膜版的方式在PAD接口处相应蒸镀上有机发光膜层和密封膜层中的材料来实现对PAD接口的保护。
搜索关键词: 一种 oled 微型 显示器 制备 方法
【主权项】:
一种OLED微型显示器的制备方法,OLED微型显示器包括硅片、形成在硅片上的显示器发光区域以及制备在硅片上的PAD接口,及在显示器发光区域上蒸镀的金属电极层,其特征在于该制备方法先用有机薄膜在PAD接口上形成一层底膜,再采用掩膜版的方式在PAD接口及显示器发光区域上蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层和密封薄膜层等蒸镀层,蒸镀层在PAD接口上形成保护膜层,之后再采用特定波长的激光轰击PAD接口,去除PAD接口上的底膜以及蒸镀层,暴露出干净的PAD接口,具体步骤如下:(1)在制备好PAD接口的硅片上采用掩膜版的方式只在显示器发光区域上蒸镀金属电极,金属电极的厚度为0.5‑100nm,同样采用掩膜版的方式在PAD接口上蒸镀一层有机薄膜作为底膜;(2)采用掩膜版的方式在PAD接口处和显示器的发光区域上顺序蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层和密封薄膜层等蒸镀层;(3)采用激光轰击覆盖在PAD接口上的底膜和保护膜层,暴露出PAD接口,之后对PAD接口进行焊接封装,完成一个OLED微型显示器的制备工作。
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