[发明专利]颗粒污染监控系统及化学气相沉积设备无效
| 申请号： | 201310156871.8 | 申请日： | 2013-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN103276368A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 雷通 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种颗粒污染监控系统，用于监控被监控对象的颗粒污染情况，所述被监控对象包括一抽气装置，所述颗粒污染监控系统包括：至少一个粒子计数装置，其中，所述粒子计数装置与所述抽气装置连接。本发明颗粒污染监控系统中，粒子计数装置与被监控对象的抽气装置连接，能够随时监控被监控对象的颗粒物，及时发现颗粒污染。 | ||
| 搜索关键词： | 颗粒 污染 监控 系统 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种颗粒污染监控系统，用于监控被监控对象的颗粒污染情况，所述被监控对象包括一抽气装置，其特征在于，所述颗粒污染监控系统包括： 至少一个粒子计数装置； 其中，所述粒子计数装置与所述抽气装置连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310156871.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
