[发明专利]阵列光学元件制造方法有效
| 申请号： | 201310081213.7 | 申请日： | 2013-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN103116196A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 沈伟;李远林 | 申请（专利权）人： | 峻立科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B7/02 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种阵列光学元件制造方法，包含以下步骤：（A）以一个第一材料成形出一个遮光框，该第一材料具有一个热变形温度，该遮光框具有一个底壁、一个周壁、至少一个隔间壁，及数个互相隔离的光通道，该底壁具有数个呈阵列排列的通孔，（B）将该遮光框置入一个成形模具内，（C）将一个第二材料射入该成形模具内，成形出一个与该遮光框一体连接的透镜单元，该第二材料具有一个小于该热变形温度的成形温度，该透镜单元具有一个结合于该底壁的基板，及数个分别连接于该基板顶侧的顶定位壁，该基板具有数个分别对应于所述通孔的透镜部，所述顶定位壁内侧结合于该周壁外侧，该遮光框在该光轴向上不凸出于所述顶定位壁。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列光学元件制造方法，其特征在于：该阵列光学元件制造方法，包含：（A）以一个第一材料成形出一个遮光框，该第一材料为低透光或不透光材料，并具有一个热变形温度，该遮光框具有一个底壁、一个一体连接于该底壁并沿一光轴向延伸的周壁，及至少一个一体连接于该底壁与该周壁之间并沿该光轴向延伸的隔间壁，该底壁具有数个呈阵列排列的通孔，该周壁与该隔间壁配合界定出数个分别连通于所述通孔且互相隔离的光通道；（B）将该遮光框置入一个成形模具的一个成形模穴内；及（C）将一个第二材料射入该成形模穴内，成形出一个与该遮光框一体连接的透镜单元，该第二材料为光学塑料，并具有一个小于该热变形温度的成形温度，该透镜单元具有一个结合于该底壁底侧的基板，及数个分别一体连接于该基板顶侧并沿该光轴向延伸的顶定位壁，该基板具有数个分别对应于所述通孔的透镜部，所述顶定位壁内侧结合于该遮光框的周壁外侧，其中，该遮光框在该光轴向上不凸出于所述顶定位壁。
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