[发明专利]基于深N阱NMOS晶体管的源极跟随器有效
申请号: | 201310076156.3 | 申请日: | 2013-03-11 |
公开(公告)号: | CN103199849A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 刘松;杨飞琴;吴柯 | 申请(专利权)人: | 香港中国模拟技术有限公司 |
主分类号: | H03K19/0185 | 分类号: | H03K19/0185 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 唐立;朱海煜 |
地址: | 中国香港德辅道中*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | 本发明提供一种基于深N阱NMOS晶体管的源极跟随器,属于源极跟随器技术领域。该源极跟随器包括电流源和用作输入器件的深N阱NMOS晶体管,其中,所述深N阱NMOS晶体管的体端与源极跟随器的输入端(Vin)连接,以至于使N阱NMOS晶体管的源极与体端之间的电压(Vsb)在输入信号变化的情况下基本保持恒定。该源极跟随器失真小、线性度好,尤其适合于在高速大负载场合应用。 | ||
搜索关键词: | 基于 nmos 晶体管 跟随 | ||
【主权项】:
一种基于深N阱NMOS晶体管的源极跟随器,包括电流源和用作输入器件的深N阱NMOS晶体管,所述深N阱NMOS晶体管包括:P型衬底,在所述P型衬底中构图掺杂形成的深N阱,在所述深N阱中构图掺杂形成的P阱,从所述P阱中引出的体端(B),在所述P阱中构图掺杂形成的源区和漏区,从所述深N阱引出的深N阱引出极,从所述漏区中引出的源极(S),从所述漏区中引出的漏极(D),以及栅极(G);其中,所述栅极被定义为所述源极跟随器的输入端(Vin),所述源极被定义为所述源极跟随器的输出端(Vout),所述漏极和深N阱引出极接入高电平信号(VDD),所述电流源的两端分别连接所述源极和接地端;其中,所述体端(B)与所述输入端(Vin)连接,以至于使所述源极与所述体端之间的电压(Vsb)在输入信号变化的情况下基本保持恒定。
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