[发明专利]一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法和装置有效
申请号: | 201310073479.7 | 申请日: | 2013-03-08 |
公开(公告)号: | CN103162645A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 匡翠方;修鹏;刘旭;葛剑虹 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01B11/26 | 分类号: | G01B11/26 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法,包括二分之一波片处于被测件上的第一位置时,将线偏光入射到与被测件滑动配合的二分之一波片内,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第一椭偏度;将二分之一波片移至第二位置,根据与第一椭偏度同样的方法得到第二椭偏度,比较分析第一椭偏度和第二椭偏度,得到被测件的第一位置和第二位置之间的滚转角误差。本发明还公开了一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 椭偏度 测量 转角 误差 测量方法 装置 | ||
【主权项】:
一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法,其特征在于,包括以下步骤:1)二分之一波片处于被测件上的第一位置时,线偏光入射到二分之一波片,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第一椭偏度;2)二分之一波片沿被测件滑动至第二位置时,线偏光入射到二分之一波片,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第二椭偏度;3)比较分析第一椭偏度和第二椭偏度,得到被测件的第一位置和第二位置之间的滚转角误差。
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