[发明专利]纳米刻蚀印章及利用其进行纳米刻蚀的方法有效
| 申请号： | 201310062552.0 | 申请日： | 2013-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN103145092A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 裴为华;陈三元;归强;陈弘达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹玲柱 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种纳米刻蚀印章。该纳米刻蚀印章包括：印章体，其底面具有待加工纳米图形的反相图形；保护层，至少形成于印章体与腐蚀液接触部分的表面，其材料为抗腐蚀液的材料；以及金属催化层，至少形成于反相图形与待刻蚀衬底接触部分的保护层上，其材料为可催化腐蚀液与待刻蚀衬底反应的材料。本发明纳米刻蚀印章及利用其进行纳米刻蚀的方法中，在印章体上预先制备好了需要的纳米结构，通过金属催化腐蚀的手段可以直接将图形转移到衬底表面，图形化过程简单，无需附加掩模层，简化了纳米结构制备的工艺流程。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 刻蚀 印章 利用 进行 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米刻蚀印章，其特征在于，包括：印章体，其底面具有待加工纳米图形的反相图形；保护层，至少形成于所述印章体与腐蚀液接触部分的表面，其材料为抗腐蚀液的材料；以及金属催化层，至少形成于所述反相图形与待刻蚀衬底接触部分的保护层上，其材料为可催化腐蚀液与待刻蚀衬底反应的材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所，未经中国科学院半导体研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310062552.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：螺旋体和螺旋给粉机
- 下一篇：振动自稳控制方法、装置和系统、以及起重机
