[发明专利]设置有研磨层的砚台及其制备方法有效
| 申请号： | 201310039875.8 | 申请日： | 2013-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN103144477A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 李佩正 | 申请（专利权）人： | 上海维凯化学品有限公司 |
| 主分类号： | B43L27/00 | 分类号： | B43L27/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 201111 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种设置有研磨层的砚台及其制备方法；所述砚台的研磨区为砚台的砚堂，其砚堂包括砚堂基体和设置在砚堂基体上的研磨层，所述研磨层与砚堂基体为一体；本发明还涉及前述设置有研磨层的砚台的制备方法，步骤如下：步骤一：制备研磨层材料；步骤二：制备砚堂基体；步骤三：采用热喷涂方法或高温烧制方法将研磨层材料加工在砚堂基体表面上，形成研磨层；步骤四：对研磨层进行打磨处理，即可。本发明针对陶瓷砚台、金属砚台、石质砚台和其他砚台由于长时间使用导致磨损，瑕疵，细腻度不好等现象，本发明通过在砚堂加设与砚堂基体材质不同的研磨层结构，使得本发明砚台寿命长，细腻度好，韧性好，硬度高，耐腐蚀，耐磨损，实用范围广，有较好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 设置 研磨 砚台 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种设置有研磨层的砚台，所述砚台的研磨区为砚台的砚堂，其特征在于，所述砚堂包括砚堂基体和设置在砚堂基体上的研磨层，所述研磨层与砚堂基体为一体。
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