[发明专利]刻蚀烘烤设备有效
申请号: | 201310037827.5 | 申请日: | 2013-01-29 |
公开(公告)号: | CN103074600A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 徐小明;周永君;丁云鑫 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 浦易文 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种刻蚀烘烤设备,该刻蚀烘烤设备包括:反应室组件,反应室组件构造成用于容纳石墨盘的反应腔;加热组件,加热组件设置在反应室组件的外周;以及设备平台,反应室组件和加热组件由该设备平台支承。反应室组件特别地包括:反应罩,该反应罩的顶侧设有通气管,该反应罩的底侧敞开;反应罩固定座,该反应罩固定座固定支承反应罩;以及底盖,该底盖设有连通反应腔的尾气通道,并且底盖密封连接到固定座上。采用本发明的反应室结构,可以满足刻蚀烘烤设备对于反应室的全方位的要求。 | ||
搜索关键词: | 刻蚀 烘烤 设备 | ||
【主权项】:
一种刻蚀烘烤设备(10),所述刻蚀烘烤设备(10)包括:反应室组件(100),所述反应室组件(100)形成用于容纳石墨盘(20)或外延衬底片的反应腔(150),加热组件(200),所述加热组件(200)设置在所述反应室组件(100)的外周;以及设备平台(500),所述反应室组件(100)和所述加热组件(200)由该设备平台(500)支承;其特征在于,所述反应室组件(100)包括:反应罩(110),所述反应罩(110)的顶部设有通气管(111),所述反应罩(110)的底侧敞开;反应罩固定座(120),所述反应罩固定座(120)固定支承所述反应罩(110);以及底盖(140),所述底盖(140)设有连通所述反应腔(150)的至少一条尾气通道(141)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的