[发明专利]碳纳米壁及石墨烯纳米带的制备方法有效
| 申请号： | 201310019410.6 | 申请日： | 2013-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103935975A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 周明杰;袁新生;王要兵;吴凤 | 申请（专利权）人： | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;C01B31/04;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 518100 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种碳纳米壁的制备方法，包括如下步骤：将金属衬底置于浓度为0.01mol/L～1mol/L的酸溶液中蚀刻0.5分钟～10分钟；在无氧条件下，将蚀刻后的金属衬底加热至600℃～900℃，使用紫外光照射金属衬底表面，并通入含碳气体与保护气，保持30分钟～300分钟，反应后，在金属衬底的表面得到碳纳米壁；其中，通入含碳气体的流量为10sccm～1000sccm，含碳气体与保护气的流量比为2～10:1。上述碳纳米壁的制备方法制备的碳纳米壁具有均匀的厚度，结构更为完整。此外，还要提供一种石墨烯纳米带的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种碳纳米壁的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将金属衬底置于浓度为0.01mol/L～1mol/L的酸溶液中蚀刻0.5分钟～10分钟；及在无氧条件下，将蚀刻后的所述金属衬底加热至600℃～900℃，使用紫外光照射所述金属衬底表面，并通入含碳气体与保护气，保持30分钟～300分钟，反应后，在所述金属衬底的表面得到碳纳米壁；其中，通入所述含碳气体的流量为10sccm～1000sccm，所述含碳气体与所述保护气的流量比为2～10:1。
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